DLC800复合镀膜机采用磁控溅射及PECVD技术来制备高性能DLC薄膜。配有空心阴极刻蚀系统，等离子体磁约束系统，磁控溅射系统，脉冲偏压系统等，有效涂层区域≥φ590x400mm，真空腔室极限真空度:≤5X10-4Pa，压升率:≤0.67Pa/h，涂层硬度:>20GPa
